“对于显微镜，我这边一共安装了两套，就是为了提高精准度！”

“至于工作台，光刻机可以说有三个工作台，一个工作台是放置掩膜的，一个工作台是放置涂有光刻胶的硅圆片的，另一个工作台就是放置成品的，也是放置硅片，也就是检测台，为了检测芯片的性能！”

“相比较而言，前两个工作台在整个生产芯片的环节之中占有非常重要的位置！”

“就是这两个平台可以分为两种，一种是相对静止，这种的需要在掩膜上刻下所有的芯片线路图，在光束照耀下光刻胶上就会刻下线路图，不过这样有一个缺点，那就是受光面积太大，使得光比较分散，影响成品率。”

“另一种就是两个平台相对运动，光束随着掩膜平台运动，这样使得光束聚光好，形成了线路图效果好，成品率高，但是……对机械精密度要求极高！”

“以我们的DUV光刻机，误差能做到10纳米，这已经够用了，要是EUV光刻机，那就要求高了，误差必须在2纳米以下，而且两个工作台的加速度必须达到炮弹发射时的加速度，此外对温度变化也有过分到变态的要求，温度上下浮动不能超过千分之一！”

“我们这一台DUV光刻机选择的是两个平台相对运动的，这样精度更高！”

“至于掩膜和硅圆片的相对位置进行曝光也可以分为以下三大种。”

“分别是接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光！”

“当然了，最好的是投影式曝光，不过我们现在的光刻机根本就没有必要采用投影式曝光，我们选择的是接近式曝光就可以了，满足我们的使用要求。”

“至于接触式曝光，那也可以分为三小种的，一种是软接触，一种是硬接触，最后一种是真空接触！”

“不管名字怎么起，但终究是接触式曝光，这种曝光有一个缺点，那就是掩膜和涂有光刻胶的硅圆片相互接触，这非常容易对掩膜造成伤害，使得掩膜板的寿命大大降低，所以就算在你们星球上这种接触式曝光已经渐渐被淘汰了。”

说道这里王小芳看了一眼王昊天：“你们国家现在能自主生产的光刻机统统是接触式曝光。”

王昊天：“……”

“我本来打算选用投影式曝光的，不过想想还是算了，你不是想要提升你们国家的制造水平嘛，我如果用了投影式曝光，将来你们国家其他人研究起来那还不得抓瞎啊，所以我选择了接近式曝光，这样你们也有头绪，研究起来不会感到绝望！”

王小芳的意思很明确，那就是现在刚刚学会走路，不要着急跑，要先走稳了再说跑的事情，一步一步来。

“至于接近式曝光……如名字一样，就是掩膜板和涂有光刻胶的硅晶圆片之间有一个小间隙，至于多大呢，大约的范围是200um已下，当然了肉眼是看不见的。”

“至于投影式曝光呢，那就复杂了，不过可以给你简单的讲解一下，分为扫描投影曝光、步进重复投影曝光、扫描步进投影曝光”

“要求都非常高，就算是我以现在的条件想要制造出来EUV光刻机也是需要花费很长的时间的，也幸亏你要求我制造的是DUV光刻机，而且还是45纳米的，难度下降了不止一个档次。”

这一次王小芳终于说了实话了。

“总而言之，制造出一台光刻机的精密度很大程度上反应出来了一个国家的工业水平，不说别的，就算我制造的这一台光刻机吧，它就包含着10个分系统，两万多个机械件以及180个传感器，而且这上边所有的零件不能出现一个问题，只要有一个出现问题，整台机器就不能够使用了。”

“真的是牵一发而动全身啊。”